晶体缺陷三种类型：

点缺陷、线缺陷—位错、面缺陷。

1、点缺陷：只涉及到大约一个原子大小范围的晶格缺陷。

2、线缺陷—位错：位错的概念1934年由泰勒提出到1950年才被实验所实具有位错的晶体结构，可看成是局部晶格沿一定的原子面发生晶格的滑移的产物。

3、面缺陷：是沿着晶格内或晶粒间的某个面两侧大约几个原子间距范围内出现的晶格缺陷。主要包括堆垛层错以及晶体内和晶体间的各种界面，如小角晶界、畴界壁、双晶界面及晶粒间界等。