光刻胶是一种液体，它通过旋转的方式涂到晶圆表面。光刻胶留在晶圆表面的厚度是由涂胶工艺的参数和光刻胶的属性——固体含量( solid content)和黏度(viscosity)来决定的。

光刻胶是一种特殊的聚合物材料，具有高分辨率、高对比度、高灵敏度和良好的稳定性。它可以通过光刻技术在制造半导体器件、平板显示器和微电子器件等领域中实现微米级图案转移。

光刻胶通常需要暴露于紫外光下进行固化，并具有可控的溶解性，以便进行图案开发和清洗。此外，光刻胶还需要具备良好的耐化学性能和机械强度，以满足不同工艺要求。