设计工艺协同优化当开始一个新技术节点光刻技术研发时，选用何种光刻技术必然和设计图形是相关联的。

假设设计是完全随意的，寻找有效的光刻方案将非常困难；及时光刻能实现，其工艺窗口必然很小；考虑另一个极端，为了使光刻工艺容易实现，对设计做非常多的限制，设计工程师将无法完成设计规则的要求。因此，最佳的解决办法是工艺和设计协同优化，彼此协作满足新节点器件的要求。