CF光刻胶是一种光刻胶，具有高分辨率、高灵敏度、低残留等特点。

它是一种由环氧树脂、光敏剂、溶剂等组成的混合物，用于半导体制造中的图形化处理和微电子器件制造。CF是Chemically Amplified Resist（化学增强型光刻胶）的缩写。