光刻胶G2-G5是一种用于半导体制造工艺中的化学材料。

它们都是光刻胶的不同型号，用于不同的制造工艺。G2-G5光刻胶具有高分辨率、高敏感度和高稳定性的特点，可以用于制造高精度的微电子元件。其中，G2用于制造较大的芯片，G3用于制造中等大小的芯片，G4用于制造小芯片，而G5则用于制造微型芯片和纳米器件。这些光刻胶在半导体工艺中扮演着重要的角色，它们的研究和应用对于半导体制造业的发展至关重要。