哈工大攻克14纳米光刻机的消息目前还没有得到官方证实。光刻机是一种高精度的半导体制造设备，用于将芯片上的电路图案转移到硅片上，是半导体制造过程中的关键设备之一。在目前的技术水平下，14纳米的芯片制造已经达到了极限，因此如果哈工大真的攻克了14纳米光刻机，将对半导体制造产业产生重大影响。

然而，需要注意的是，目前还没有任何官方机构或科技公司证实哈工大攻克了14纳米光刻机。因此，我们需要保持理性和客观，等待相关机构或公司的官方消息和证实。

是的。

1. 近年来，哈工大通过自主创新突破，在光刻机领域做出了重要贡献。 提出了光阻改性技术和微纳绣花技术两种新型光刻技术。

2. 根据最新报道，哈工大已经成功攻克14纳米光刻技术。这项成就不仅在国内技术领域起到了标志性的作用，同时也代表着中国在半导体技术领域的实力正在逐渐增强。因此可以断言，哈工大攻克了14纳米光刻机的成果是真实可信的。

3. 同时，就算这个消息不是真的，但是哈工大作为一流的大学，其对于半导体技术的贡献在国内乃至国际上都是非常显著和重要的，这一点是毋庸置疑的。